第394章 晶片良率百分百没有一个废品零缺陷全良率（第1页）

接下来几天。

一切都在有条不紊地进行著。

1nm光刻机首片晶圆流片成功之后，曹所长和刘工他们几乎把车间当成了家。

困了就靠在椅子上眯一会儿。

醒了就继续盯著屏幕上的数据，眼睛都不敢眨一下。

不是江辰要求他们这么拼，是他们自己停不下来。

用刘工的话说：

“江院士，您別劝我。”

“我现在一闭眼就梦到晶圆上的那些纳米级结构，比做梦娶媳妇还激动。”

曹所长在旁边补了一句：

“他上周刚闹离婚，就是因为天天泡在实验室不回家。”

刘工瞪了他一眼：“曹所长，你能不能別在江院士面前揭我短？”

“我说的是事实。”

“事实也不能在这个时候说！”

江辰在旁边看著两人斗嘴，没忍住笑了一声。

这种氛围，比任何庆功宴都让人踏实。

良率爬坡的速度出乎所有人的预料。

一般来说。

新製程的光刻机从首片流片成功到良率稳定，少说也要折腾好几个月。

asml的7nm製程刚出来那会儿，良率惨不忍睹。

一片晶圆上能用的晶片连一半都不到。

工程师们熬了一年多才勉强把良率拉到85%以上。

但江辰这台1nm光刻机，从一出手就不讲道理。

起步良率，95%。

曹所长拿到第一组良率数据的时候，整个人愣在控制台前面，盯著屏幕上的数字看了足足十几秒。

然后转头问旁边的刘工：“你掐我一下。”

刘工毫不客气地在他胳膊上拧了一把。

“嘶！！！不是做梦？”

曹所长齜牙咧嘴地揉著胳膊，脸上的表情既痛苦又狂喜，

“95%？起步就95%？我们是不是跳过了什么步骤？”

“正常流程不是应该先从六七十开始，然后一点一点往上爬吗？”

刘工在旁边搓著手，兴奋得像个刚拿到新玩具的孩子：

“曹所长，正常流程那是针对正常光刻机的。”

“咱们这台机器，从头到尾就没正常过。”

“你这话怎么听著像骂人？”

“不是骂人，是夸它！”

“您想想，光源，江院士给的方案，功率直接干到了千瓦级，比asml的那套高出好几倍。”

“物镜系统，还是江院士的方案，薄膜粗糙度做到了零点零几纳米。”