第233章 第233章（第2页）

此刻刘光齐並没有待在项目组的主实验区，而是站在车间另一侧的大黑板前，用粉笔勾勒著复杂的图纸。这是光刻机的技术原理图——基於此前在小规模集成电路研发中改良的光刻工艺，结合与中国科学院的技术交流，他正在著手设计初代接触式光刻机。

要实现集成电路晶片的批量生產，光刻机是必须跨越的技术关口。事实上，国內的光刻技术研发早在六十年代初便已起步。这个时代的中国科研工作者凭藉自力更生的精神，在极其艰苦的条件下，硬是研製出了光刻机、晶片离子注入机等一系列精密设备。

即便没有刘光齐的出现，六十年代初期的光刻工艺也已奠定基础。而此时，距离未来光刻机巨头asml的创立尚有近二十年时间。

在半导体技术竞赛的最初阶段，华国本是领跑者。

可为何后来——

这片土地上的光刻技术，反而渐渐落在了西方身后？

答案直白得近乎残酷。

购买胜过自研，租赁胜过购买。

这样的**曾长久笼罩著这片大地。

换言之，

早年的华国受限於经济条件，要在光刻这类尖端技术上取得突破，步履维艰。

研发的齿轮因此缓缓减速，几近停转。

这一停，便是將近二十载光阴。

须知，

光刻工艺的每一点进步，都需经年累月的投入与人才的层层积淀。

华国虽出发得早，

底子却仍显单薄，加之外部的技术围栏，追赶之路並非坦途。

而今，

刘光琪站在了这里。他绝不会眼睁睁放过半导体天穹中最亮的那颗星——

光刻机。

此时西方的光刻技术亦在萌芽不久，虽略领先於华国，优势却也微薄。

刘光琪的谋划是——

一手推进中规模集成电路的研製，一手將光刻机从蓝图化为现实。

两条路並进。

待时日稍积，

便能以更精进的光刻工艺，反哺集成电路的製造，让晶片如潮水般涌向市场。

光刻机之理，

在物理层面並不幽深，核心属於微电子科学与工程的疆域。

这是一门交织的学问，

融匯了物理、材料、光学与精密机械的智慧。

恰巧，刘光琪依凭前世的积淀与此世卓绝的领悟力，早已触及光刻技术的门径。

若以修筑百层高楼比喻晶片的製造，

那么光刻机便是勾勒骨架的笔锋——

绘一层轮廓，覆一层材质，再续绘下一层。

说来轻巧，

真要將光刻化为现实，却复杂得超乎想像。

此刻，

所有的视线都紧紧锁在那台新生的银灰色设备上。

那是一台接触式光刻机，

静立如碑，镜头在灯光下流转著冷静而精密的光泽。